AEG 1S 400-170 HRL1 2000000897

AEG

• 作为拥有36年以上历史的直流电源产品*企业，AE 为全球成千上万的客户提供服务，通过下列优势、解决客户复杂的工艺问题，为客户创造价值：
• 高产量
• 靶材使用寿命的延长，利用率提高
• 系统正常运行时间的延长
• 应用支持人员
• 全球支持能力
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  AE 的直流电源产品主要通过物理气相沉积市场上主要使用的物理气象沉积工艺——合金溅射以及与有反应气体参与的反应溅射，AE电源广泛应用于以下制造市场，包括：
   
• 导体（铜、铝、钽、钛以及更新的异类材料）
• 板显示器（薄膜晶体管、彩色滤光片、有机 LED）
• 据存储（光存储、磁存储以及磁光存储相结合）
• 阳能光伏电池（透明导电氧化物和硅沉积）
• 筑玻璃
• 进产品应用（用于光学装置、工具涂层、塑料等的薄膜）
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• Litmas® RPS 1501和3001远程等离子源平台
• Litmas® RPS 是采用高传导、低表面面积结构的*整合远程感应式等离子源和供电系统。非常适合为晶圆预清洗、光致抗蚀剂剥离和原子层沉积 (ALD) 等工艺提供反应气体。此外，其大功率密度和高传导性使其成为后处理废气治理的理想平台。
• Litmas RPS 可在不到3毫秒的时间内提供高达3 kW 的稳定射频功率，从而能够实现90 nm 和300 nm制程的快速变化。
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• Litmas® RPS 前极管道 PFC 治理
• Litmas® RPS 系统是一种前极管道治理解决方案，可减少半导体制程的全球变暖影响。这个高性能的线性感应式等离子源*整合了2 MHz 电源和匹配电路。其在 CVD、蚀刻和灰化应用中的阻抗使用范围很广。
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• Xstream® 远程等离子源
• 高效 Xstream® 远程等离子源平台产生来自稳定的原料气体的中性活性种，用于表面改性、腔室清洗、薄膜蚀刻以及等离子辅助沉积。
  
  安装在工艺腔室外的 Xstream 平台整合了远程等离子源、6 kW 或8 kW 的高效电源以及获得的固态主动式匹配网络。该网络在一个腔室清洗源上拥有宽的商业化阻抗运行范围。Xstream 远程等离子源让工艺工程师拥有的反应气体工艺灵活性，从而提高了系统吞吐量，优化了昂贵资源的使用。
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• AE Xstream 不允许在美国或欧洲销售。 

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